真空镀膜技术与设备（第2版）

    

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普通高等教育“十四五”规划教材

 

本书结合数字新媒体技术，配备了彩色图片、动画、视频、PPT等数字资源（插件），读者扫描书中的二维码即可观看相关文字内容对应的数字资源。本书为高等学校教学用书，也可供真空技术与工程、薄膜与表面应用、材料工程、应用物理以及与真空镀膜技术相关领域的工程技术人员参考。

 

内容简介

本书共分10章，系统阐述了各种真空镀膜技术的基本概念、工作原理和应用，真空镀膜机的结构、设计计算，蒸发源，磁控靶的设计计算，薄膜厚度的测量技术，薄膜与表面分析检测技术；书中还介绍了近年来出现的新型薄膜材料石墨烯的制备方法和应用等方面的内容。

 

目录

1 真空蒸发镀膜

1.1 概述

1.2 真空蒸发镀膜基础理论

1.3 蒸发源

 

2 真空溅射镀膜

2.1 溅射镀膜原理

2.2 溅射与沉积成膜

2.3 溅射镀膜方法

2.4 直流二极溅射

2.5 磁控溅射

2.6 射频（RF）溅射

2.7 非平衡磁控溅射

2.8 反应磁控溅射

2.9 中频交流反应磁控溅射

2.10 非对称脉冲溅射

2.11 离子束溅射

 

3 真空离子镀膜

3.1 离子镀的类型

3.2 真空离子镀原理及成膜条件

3.3 等离子体在离子镀膜过程中的作用

3.4 离子镀中基片负偏压的影响

3.5 离子镀的离化率

3.6 离子镀膜工艺及其参数选择

3.7 离子镀的特点及应用

3.8 直流二极型离子镀装置

3.9 射频放电离子镀装置

3.10 空心阴极离子镀

3.11 真空阴极电弧离子镀

3.12 磁控溅射离子镀

 

4 真空等离子增强化学气相沉积技术

4.1 概述

4.2 等离子体增强CVD（PECVD）技术

4.3 直流等离子体化学气相沉积

4.4 射频等离子体化学气相沉积

4.5 微波等离子体CVD沉积（MPCVD）

4.6 激光化学气相沉积（LCVD）

4.7 金属有机化合物CVD沉积（MOCVD）

 

5 离子注入与离子辅助沉积技术

5.1 离子注入概述

5.2 离子注入设备

5.3 强束流离子源

5.4 离子注入表面改性机理

5.5 离子注入技术的特点

5.6 离子注入掺杂

5.7 离子束辅助沉积技术

 

6 石墨烯薄膜的制备及其应用

6.1 概述

6.2 CVD法制备石墨烯薄膜

6.3 石墨烯的表征

6.4 石墨烯的应用

6.5 石墨烯的发展前景

 

7 真空镀膜机结构设计

7.1 真空镀膜机设计概述

7.2 真空镀膜室设计

7.3 镀膜室升降机构的设计

7.4 镀膜室工件架的设计

7.5 真空镀膜机的加热与测温装置

7.6 真空镀膜机的挡板机构

7.7 真空镀膜机抽气系统的设计

 

8 镀膜源的设计计算

8.1 蒸发源的设计计算

8.2 磁控溅射靶的设计

 

9 薄膜厚度的测量与监控

9.1 光学测量方法

9.2 机械测量方法

9.3 电学测量方法

 

10 表面与薄膜分析检测技术

10.1 概述

10.2 表面与薄膜分析方法分类

10.3 表面与薄膜的力学性能表征

10.4 表面与薄膜的组织形貌及晶体结构分析

10.5 表面与薄膜的成分表征方法